Influence of water vapour on the zircaloy-4 oxidation at high temperature - Stress determination by in situ X-Ray diffraction
Résumé
A key parameter for the understanding the effect of water vapour on the oxidation mechanism is the determination of the stress level in the monoclinic zirconia scale and in the Zircaloy-4 (Zy-4) substrate at high temperature. In order to provide an accurate description of the microstructure of the oxide layers, X-ray diffraction (XRD) analyses have been performed in situ under dry and wet oxidizing environments at high temperature on Zy-4 flat sheet samples. The aim of the present work is to show the influence of water vapour on the stress developed at high temperature in the oxide scale as well as inside the alloy. The stress evolution during cooling to room temperature has also been determined.
Le niveau de contrainte généré au sein de la couche de zircone monoclinique sur le Zircaloy-4 (Zy-4) à haute température est un paramètre clé de la compréhension de l'effet de la vapeur d'eau sur le mécanisme d'oxydation mis en jeu. Afin de donner une description précise de la microstructure des couches d'oxyde nous avons utilisé la diffraction des rayons X (DRX) in situ sous air sec et sous air humide sur des échantillons plans de Zy-4 à haute température. Le but de ce travail est de déterminer l'influence de la vapeur d'eau sur les contraintes de croissance dans la couche de zircone monoclinique ainsi que dans le substrat métallique. Nous avons aussi étudié l'évolution des contraintes au cours du refroidissement.
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ARTICLE STRESS Zy4 H2O (ACSM 2015) Henri BUSCAIL (Corrigé).pdf (104.79 Ko)
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Origine : Fichiers produits par l'(les) auteur(s)
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