Influence of water vapour on the zircaloy-4 oxidation at high temperature - Stress determination by in situ X-Ray diffraction

Résumé : Le niveau de contrainte généré au sein de la couche de zircone monoclinique sur le Zircaloy-4 (Zy-4) à haute température est un paramètre clé de la compréhension de l'effet de la vapeur d'eau sur le mécanisme d'oxydation mis en jeu. Afin de donner une description précise de la microstructure des couches d'oxyde nous avons utilisé la diffraction des rayons X (DRX) in situ sous air sec et sous air humide sur des échantillons plans de Zy-4 à haute température. Le but de ce travail est de déterminer l'influence de la vapeur d'eau sur les contraintes de croissance dans la couche de zircone monoclinique ainsi que dans le substrat métallique. Nous avons aussi étudié l'évolution des contraintes au cours du refroidissement.
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Annales de Chimie - Science des Matériaux, Lavoisier, 2015, 39 (3-4), pp.115-122. 〈10.3166/acsm.39.115-122〉
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Contributeur : Henri Buscail <>
Soumis le : vendredi 3 novembre 2017 - 10:11:10
Dernière modification le : jeudi 11 janvier 2018 - 15:10:57
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Henri Buscail, Raphaël Rolland, Christophe Issartel. Influence of water vapour on the zircaloy-4 oxidation at high temperature - Stress determination by in situ X-Ray diffraction. Annales de Chimie - Science des Matériaux, Lavoisier, 2015, 39 (3-4), pp.115-122. 〈10.3166/acsm.39.115-122〉. 〈hal-01628252〉

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